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一(yi)、砂磨(mo)機介紹
①什么是砂(sha)磨(mo)機？
濕磨砂磨機(ji)是一種將粉末精制到納米級的機(ji)器。
通過在研磨機中(zhong)與研磨珠一起攪(jiao)拌(ban)來粉(fen)碎(sui)·分(fen)解·分(fen)散液(ye)體中的粉體(漿料(liao))。
②使用砂(sha)磨機來使顆粒更細，到底會有什(shen)么樣(yang)的作(zuo)用呢(ni)?
③可使用(yong)到(dao)砂磨機的產品(pin)：
④砂磨(mo)機中(zhong)發(fa)生了什(shen)么(me)？
⑤砂磨機和球(qiu)磨機的比(bi)較
⑥單桶(tong)循環(huan)彩圖/雙桶(tong)循環(huan)彩圖
⑦砂磨機的(de)工作原理(li)：
砂磨(mo)機屬于(yu)濕法超細研磨(mo)設備(bei),，是從球磨機發(fa)展而來,廣泛應(ying)用于超細粉體(ti)（亞(ya)微米、納米級(ji)粉體(ti)）的(de)(de)生(sheng)產過程中。砂磨機有不同(tong)的(de)(de)分(fen)類方式(shi):根(gen)據攪拌軸的(de)(de)結(jie)構(gou)形(xing)狀可(ke)分(fen)為盤式(shi)、渦輪式(shi)、棒(bang)銷式(shi);根(gen)據研(yan)磨筒的(de)(de)布置形(xing)式(shi)可(ke)以分(fen)為立式(shi),臥式(shi);也可(ke)根(gen)據筒體(ti)容積大小區分(fen)。
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⑧砂(sha)磨(mo)機的發展歷(li)程
砂磨機發展大(da)概經歷了以(yi)下幾個階段(duan):
第一階(jie)段(duan):立式攪拌磨〔棒式+底部篩網分離器)第二階段:立式盤式砂磨機（盤式+頂部篩網分離器）第三階段:立式棒銷砂磨機(棒式+頂部縫隙分離器)
第四階段(duan):臥式盤式砂磨機（盤式+動態間隙分離器）〔棒式+大過濾面積分離器）第五階段:立式棒銷砂磨機（棒式+無曬網離心分離)適用于小批量生產
臥式棒銷砂磨機（棒式+大過濾面積分離器）（棒式+無曬網離心分離）適用于大批量生產
⑨砂磨機的主要指示
A、砂磨機的流量(liang):影響產品(pin)細度，產量(liang)以及粒度分布。
B、攪拌軸線(xian)速(su)度(du)(du)(du):影響研(yan)磨(mo)效率，物料細度(du)(du)(du)及磨(mo)損。線(xian)速(su)度(du)(du)(du)大小影響研(yan)磨(mo)介質施加給物料顆粒的動能強度(du)(du)(du)，一般為(wei)8-16m/s。
C、介質尺寸:影響(xiang)研磨(mo)(mo)效率，產品(pin)細度。介質徑(jing)越(yue)(yue)小(xiao)，磨(mo)(mo)球(qiu)之間接觸點多和接觸間隙越(yue)(yue)小(xiao)，理論上研磨(mo)(mo)物(wu)(wu)料(liao)粒(li)徑(jing)越(yue)(yue)小(xiao)，但是還要取決于物(wu)(wu)料(liao)進料(liao)粒(li)徑(jing)等多方(fang)面因素，總之合適(shi)尺寸的研磨(mo)(mo)介質，研磨(mo)(mo)合適(shi)粒(li)徑(jing)的物(wu)(wu)料(liao)。
D、介質填(tian)充率(lv)(lv):影響研磨(mo)(mo)效(xiao)率(lv)(lv)，產品細(xi)度。研磨(mo)(mo)介質裝(zhuang)(zhuang)填(tian)率(lv)(lv)高，研磨(mo)(mo)效(xiao)率(lv)(lv)高，但是過(guo)(guo)(guo)高裝(zhuang)(zhuang)填(tian)率(lv)(lv)會引起砂磨(mo)(mo)機溫升過(guo)(guo)(guo)高或者出口堵塞。研磨(mo)(mo)介質裝(zhuang)(zhuang)填(tian)率(lv)(lv)過(guo)(guo)(guo)低，研磨(mo)(mo)效(xiao)率(lv)(lv)低，磨(mo)(mo)損加劇，研磨(mo)(mo)時間延長;合適的(de)裝(zhuang)(zhuang)填(tian)率(lv)(lv)質量(liang)計算法=砂磨(mo)(mo)機有效(xiao)容積×裝(zhuang)(zhuang)填(tian)率(lv)(lv)（70-85%)×介質堆積密度)。
E、介質比重(zhong):影響(xiang)研磨效率。產品(pin)細度。介質比重(zhong)越大，動(dong)能越大，研磨效率越高。
F、分離間隙尺寸:分離器(qi)(qi)的(de)(de)結(jie)構及縫(feng)隙寬度決定研磨(mo)介質(zhi)尺寸大小(xiao)。一般情況(kuang)下研磨(mo)介質(zhi)直徑(jing)為砂磨(mo)機分離器(qi)(qi)縫(feng)隙寬度的(de)(de)2-4倍。
二、產品用途(tu)
MQ-B150~B400高效棒(bang)銷式(shi)納米(mi)陶(tao)(tao)瓷砂磨機是一(yi)款(kuan)新型(xing)大流(liu)量(liang)循(xun)環(huan)砂磨機，是目前超細研磨設備(bei)的(de)精華。采用(yong)循(xun)環(huan)砂磨工藝或多次研磨工藝能提高產(chan)能，產(chan)品顆(ke)粒級配分(fen)布得以優化(hua)(hua)。稍加一(yi)些控制功能，可(ke)(ke)保證產(chan)品的(de)可(ke)(ke)復制性及節約成本。大尺寸(cun)轉(zhuan)子加上筒狀縫隙式(shi)分(fen)離器，使該型(xing)設備(bei)可(ke)(ke)使用(yong)不同材(cai)質小粒徑磨介。對于有避免金(jin)屬污染(ran)要求的(de)物料，可(ke)(ke)采用(yong)陶(tao)(tao)瓷(碳化(hua)(hua)硅(gui)、氮化(hua)(hua)硅(gui)、氧化(hua)(hua)鋯) 及聚氨酯結構材(cai)料。
適用于鋰電(dian)材(cai)料(磷酸鐵鋰、硅碳(tan)負極等)、硅微(wei)粉、氧(yang)化鋯(gao)、氧(yang)化鋁、硅酸鋯(gao)、電子陶(tao)瓷(ci)、農(nong)藥懸浮劑、磁(ci)性(xing)材料(liao)(liao)、墨水涂料(liao)(liao)、醫藥食品(pin)、生物化工及其(qi)他納米級材料(liao)(liao)領(ling)域。
三(san)、主要特點
滿(man)足相關行(xing)業(ye)的(de)濕法納米研磨，清洗方便，維護簡(jian)單，效率高、產(chan)量大(da)、能耗低，控(kong)制(zhi)簡(jian)單。
四、主要技術參數(shu)
◆適合細度：1um-50nm
◆磨(mo)介尺(chi)寸：≥0.2nm
