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一、砂磨機介紹
①什(shen)么是(shi)砂磨機？
濕(shi)磨砂磨機(ji)是一(yi)種將粉(fen)末精制到納米級的機(ji)器。
通過在(zai)研(yan)磨機中(zhong)與(yu)研(yan)磨珠(zhu)一起攪拌來粉碎·分(fen)解·分(fen)散液體中的(de)粉體(漿料)。
②使(shi)用砂磨機來使(shi)顆(ke)粒更細(xi)，到底(di)會有什么樣的作用呢?
③可使用到砂(sha)磨機(ji)的(de)產品：
④砂磨機中發生了什么(me)？
⑤砂磨機和球磨機的比較
⑥單桶循環彩(cai)(cai)圖/雙桶循環彩(cai)(cai)圖
⑦砂磨機的(de)工作原理：
砂磨機屬(shu)于濕法超細(xi)研磨設(she)備,，是從(cong)球磨機發展而來(lai),廣(guang)泛應用于超細(xi)粉體（亞微(wei)米(mi)、納米(mi)級粉體）的(de)生產過程(cheng)中。砂磨機有不同的(de)分(fen)類方式(shi):根(gen)(gen)據攪拌軸的(de)結構形狀可分(fen)為(wei)盤(pan)式(shi)、渦輪式(shi)、棒銷(xiao)式(shi);根(gen)(gen)據研(yan)磨筒(tong)的(de)布置形式(shi)可以(yi)分(fen)為(wei)立式(shi),臥式(shi);也(ye)可根(gen)(gen)據筒(tong)體容積大小區分(fen)。
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⑧砂磨機的發展歷程
砂(sha)磨機發展大概經歷了以下幾個階段:
第一階(jie)段:立式攪拌磨〔棒式+底部篩網分離器)第二階段:立式盤式砂磨機（盤式+頂部篩網分離器）第三階段:立式棒銷砂磨機(棒式+頂部縫隙分離器)
第四階段:臥式盤式砂磨機（盤式+動態間隙分離器）〔棒式+大過濾面積分離器）第五階段:立式棒銷砂磨機（棒式+無曬網離心分離)適用于小批量生產
臥式棒(bang)銷砂(sha)磨機（棒(bang)式+大過濾面積分離器）（棒式+無曬網離心分離）適用于大批量生產
⑨砂(sha)磨機的主(zhu)要(yao)指(zhi)示
A、砂磨機的流量:影響產品細度，產量以及粒度分布。
B、攪拌軸線(xian)速度:影響研磨(mo)效率，物(wu)料細度及磨(mo)損。線(xian)速度大小影響研磨(mo)介質施加(jia)給物(wu)料顆粒(li)的動能強度，一般為8-16m/s。
C、介(jie)質尺寸:影(ying)響研(yan)磨(mo)效率(lv)，產(chan)品細度(du)。介(jie)質徑越小，磨(mo)球之(zhi)間(jian)接觸(chu)點多和接觸(chu)間(jian)隙越小，理(li)論(lun)上研(yan)磨(mo)物料粒(li)(li)徑越小，但是(shi)還要(yao)取決于(yu)物料進料粒(li)(li)徑等多方面因素，總之(zhi)合適尺寸的研(yan)磨(mo)介(jie)質，研(yan)磨(mo)合適粒(li)(li)徑的物料。
D、介(jie)質(zhi)(zhi)(zhi)填充率(lv)(lv)(lv):影響研(yan)磨效率(lv)(lv)(lv)，產品細度。研(yan)磨介(jie)質(zhi)(zhi)(zhi)裝(zhuang)填率(lv)(lv)(lv)高，研(yan)磨效率(lv)(lv)(lv)高，但是過(guo)(guo)高裝(zhuang)填率(lv)(lv)(lv)會(hui)引起砂磨機(ji)溫升過(guo)(guo)高或(huo)者出(chu)口堵塞。研(yan)磨介(jie)質(zhi)(zhi)(zhi)裝(zhuang)填率(lv)(lv)(lv)過(guo)(guo)低，研(yan)磨效率(lv)(lv)(lv)低，磨損加劇，研(yan)磨時間延長;合適的裝(zhuang)填率(lv)(lv)(lv)質(zhi)(zhi)(zhi)量計算法(fa)=砂磨機(ji)有效容(rong)積(ji)×裝(zhuang)填率(lv)(lv)(lv)（70-85%)×介(jie)質(zhi)(zhi)(zhi)堆積(ji)密度)。
E、介質(zhi)比重:影響(xiang)研磨(mo)效率。產(chan)品細(xi)度。介質(zhi)比重越大(da)，動能越大(da)，研磨(mo)效率越高(gao)。
F、分(fen)離間隙尺(chi)寸:分(fen)離器(qi)(qi)的結構及縫隙寬度(du)決定研磨(mo)介(jie)質尺(chi)寸大小。一般(ban)情(qing)況下研磨(mo)介(jie)質直徑(jing)為砂磨(mo)機分(fen)離器(qi)(qi)縫隙寬度(du)的2-4倍。
二、產品說(shuo)明
MQ-B1~B10動態篩網棒效納米砂磨機是一款(kuan)超(chao)細納米研磨精密設備，裝配尺寸及公差等級(ji)較高，能適(shi)應批量0.1mm及以下氧化鋯球有效研磨，由于篩網是動態分離網，不容易堵機，設備穩定性好。超(chao)細(xi)納米(mi)研磨，適用小(xiao)批量高要求(qiu)納米(mi)級材(cai)料行(xing)業(ye)。
三(san)、主要特點
動態篩網，不容易堵網，可用更細(xi)的氧(yang)化鋯球穩(wen)定運行。
四、主要技(ji)術參(can)數
◆適合細度(du)：1um-50nm
◆磨介尺(chi)寸：≥0.05nm
